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    玻璃瓶揮發(fā)成分及膨脹系數(shù)
    作者:琳瑯玻璃發(fā)布:2016-01-02已訪問:3965 次

           PVD法可在較低的溫度下制備具有優(yōu)異的性能的薄膜,而且所用的原料為固體,可制備金屬,化合物的薄膜。PVD法有正空蒸鍍,濺射成膜等等方法。玻璃瓶生產(chǎn)廠家把所謂真空蒸鍍在10-2Pa以下的真空中加熱固體物質(zhì)使之蒸發(fā)并在基板上付著成膜,這是最基本的PVD法。徐州玻璃瓶廠把薄膜的形成的過程為蒸鍍原料在蒸發(fā)源被加熱,蒸鍍原料的分子或原子向機(jī)板處飛行,分子或原子附著于潔凈基板上并形成薄膜。
         由于蒸發(fā)物不同在蒸發(fā)源處的溫度及真空度有所不同,玻璃瓶廠一般以物質(zhì)蒸汽壓為1Pa時加熱的溫度為參考點而真空度選擇10-3Pa以下。分子或原子在到達(dá)基板前的飛行中最好不與殘留的氣體分子發(fā)生碰撞,從而可以保持蒸鍍前其所具有的能量。玻璃瓶生產(chǎn)廠家在溫度T時做熱運(yùn)動的分子與其它分子不發(fā)生碰撞前進(jìn)的距離為平均自由程,一般使蒸鍍的分子或原子與殘留氣體分子不發(fā)生碰撞的真空度應(yīng)在10-2Pa以下。實際蒸鍍中除了蒸發(fā)的原子或分子入射并附著與基板上,這種氣體分子入射附著基板上的頻率,玻璃瓶廠由此要制備不含或含量甚微殘留氣體為雜質(zhì)的薄膜,蒸鍍的真空應(yīng)低一些好,實用的應(yīng)在10-3Pa一以下。我們要求純度高的薄膜應(yīng)在10-7Pa以下,其中為蒸鍍發(fā)源,與蒸發(fā)面積S相比,其開口面積S非常小,由此損失的分子若可以忽略的話,可以認(rèn)為爐內(nèi)的蒸汽壓平衡。此時玻璃瓶生產(chǎn)廠家由開口處噴出的分子數(shù)僅受爐內(nèi)溫度影響,這一溫度高低即可控制分子向外飛散的強(qiáng)度。

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